IT之家 7 月 7 日消息，三星一直致力于通過(guò)其先進(jìn)的制造工藝吸引客戶，但這一努力面臨重重困難，這不僅導(dǎo)致其泰勒工廠的開(kāi)業(yè)時(shí)間推遲到 2026 年，還使得該公司 1.4 納米工藝的推進(jìn)受阻，因?yàn)槿钦谌μ嵘?2 納米環(huán)繞柵極（GAA）技術(shù)的良率。

據(jù) Chosun 最新報(bào)道，三星已經(jīng)開(kāi)始實(shí)施一項(xiàng)“選擇與集中”戰(zhàn)略，其主要目標(biāo)是將 2 納米 GAA 技術(shù)的良率提升至 60% 至 70%。一旦達(dá)到這一里程碑，大規(guī)模生產(chǎn)將成為可能，潛在客戶也將進(jìn)一步認(rèn)識(shí)到其技術(shù)潛力。

據(jù)報(bào)道，三星電子商業(yè)支持特別工作組和三星全球研究院正在推進(jìn)提升 2 納米 GAA 良率的戰(zhàn)略。消息人士 @Jukanlosreve 在 X 平臺(tái)上發(fā)布了詳細(xì)信息，指出三星對(duì)這一光刻技術(shù)的關(guān)注主要源于客戶對(duì)半導(dǎo)體的需求，這些客戶可能在未來(lái)兩到三年內(nèi)繼續(xù)依賴這項(xiàng)技術(shù)。投資于 2 納米以下的工藝存在較高風(fēng)險(xiǎn)，但三星在 2 納米 GAA 節(jié)點(diǎn)上已經(jīng)取得了一定進(jìn)展，使其成為幫助三星實(shí)現(xiàn)復(fù)興并對(duì)抗臺(tái)積電的可行選擇。

然而，三星的處境并不樂(lè)觀。此前曾有報(bào)道稱，三星終于獲得了一線生機(jī)，有望為高通生產(chǎn)驍龍 8 Elite Gen 2 芯片，但在完成試生產(chǎn)階段后，高通卻據(jù)稱取消了這一計(jì)劃。盡管如此，三星并未放棄努力，據(jù)悉其已完成了第二代 2 納米工藝的基本設(shè)計(jì)，并計(jì)劃在未來(lái)兩年內(nèi)推出第三代技術(shù)，即“SF2P+”。

據(jù)IT之家了解，通常情況下，為了使晶圓生產(chǎn)在商業(yè)上具有可行性，客戶的良率需要達(dá)到 70%。報(bào)道稱三星高管已為其各部門(mén)設(shè)定了六個(gè)月的期限，以實(shí)現(xiàn)上述目標(biāo)。

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